HA高耐蝕鍍硬鉻添加劑 加入后，電流效率提高2-3倍，可大大提高陰極電流的利用率及鍍槽的產量，相當直接增加了一套電鍍設備，在設備、人員、電耗等不變的前提下，純利潤翻番。也可大電流鍍鉻，實現高速鍍鉻，可用于連續鍍厚達1mm鍍層，外觀平滑光亮。電流密度可拓寬2~3倍，電流密度寬可達10~100安培/平方分米，如大電流生產，產量比同等設備的普通鍍槽增加4~6倍（電流效率是普通鍍鉻的2~3倍，電流密度可比普通鍍鉻大2~3倍）。大電流區鍍層無燒焦，無鉻瘤，不蹦鉻。小電流區深鍍能力與均鍍能力優于普通鍍鉻。電鍍層即為有效鍍層，大大降低了后續研磨的工作量。鍍層硬度高HV在1050以上，鍍鉻層硬度穩定，即使槽液穩定高達70度，也不會降低鍍層硬度。加入HA高耐蝕鍍鉻添加劑的鍍液，鍍出的鍍層結晶非常細致，內應力小，且分布均勻，晶格排列無缺陷，無內應力集中區，只有細小均勻的微裂紋，而沒有能降低鍍層耐蝕性及耐磨性的大裂紋、針孔。HA高耐蝕鍍鉻添加劑對鍍液有一定的凈化作用，可凈化鍍液中由于添加的鉻酸、水以及陰陽極難免帶入少量金屬污染，消除鍍液中的有害金屬雜質的積累，消除鍍層的不良夾雜，使鍍液長期能保持亮紅的最佳工作狀態，使鍍鉻層有很高的耐蝕性，而且質量穩定。在正常的槽液、設備電鍍的條件下加入HA高耐蝕鍍硬鉻添加劑制備的標準鍍鉻層，鍍鉻層中性鹽霧測試可達100小時以上。