納米氮化硅對PS板的耐磨性影響

湖州源沁新材料有限公司測試了納米氮化硅YQ-S31G可以使陽圖PS版耐磨性提高30%,對感光度和分辨率沒有影響.由反射密度的損失量評定印版耐磨性,由掃描電鏡觀察氮化硅納米粒子在版面的狀態.氮化硅質量分數為2%時耐印效果最好,大于2.0%時由SEM觀察到團聚現象,印刷力下降.

實驗材料：納米氮化硅YQ-S31G,成膜樹脂和光敏劑配，超聲波震蕩器， 八開曬版機.

步驟：將50nm納米氮化硅YQ-S31G（1%-2%）質量分數超聲波分散在混合溶劑中,再依次投入成膜樹脂和光敏劑配制成感光膠,經離心涂布在(砂目Ra=01 65鋁版基上干燥后,曬版,顯影,磨版.

片中可以看出,納米Si3N4粉體1.5%質量分數在樹脂基體中分散比較均勻,沒有發生團聚,并且能很好彌散于樹脂基體中,與有機基體具有較好的相容性,有利于提高成膜物的力學性能,增加印版印次.

湖州源沁新材料有限公司在普通陽圖PS版感光體系中加入適量的納米氮化硅YQ-S31G,由磨版后的密度損失觀察到納米氮化硅可以顯著提高耐磨性,并且對PS版其他性能沒有不良影響.